SOIMOSFET相关论文
介绍了ＳＯＩＭＯＳＦＥＴ 二维数值模拟器的设计过程。耦合和非耦合相结合的迭代方法提高了收敛稳定性和计算效率。考虑了两种载流子的连续性方程及......
ＳＯＩＭＯＳＦＥＴ中存在着严重的自加热效应，对其直流特性有较大的影响。给出准确的自加热效应模型是精确模拟ＳＯＩＭＯＳＦＥＴ直流特性的基础。文中通过对自加热效应......
本文介绍一种采用载流子总量方法分析SOIMOSFET器件特性及热载流子效应的数值模型。使用专用模拟程序LADES7联解器件内部二维泊松......
本文应用“幸运电子”概念，取代平均电场热载流子模型［１］，利用二维数值计算的方法，建立起一组热载流子向栅氧化层注入的注入电流和栅电流......
采用幂级数方法对基于全耗尽 (FD)SOIMOSFET和凹陷 (RC)沟道SOIMOSFET的失真行为进行了研究 ,发现随着沟道长度的减小失真行为变坏......
MOS器件的自加热效应将影响器件的性能 .漏极电流将减小 ,长时间的可靠性也会受到影响 .在SOI器件中 ,自加热甚至比埋葬式氧化物引......
据《科技开发动态》2004年第2期报导,该发明为沟道有热、电通道的SOI MOSFET器件制造工艺,属于微电子器件制造技术范围。该工艺和......
提出了部分耗尽SOIMOSFET物理模型,SOIMOSFET可以看作体硅MOSFET和双极晶体管的结合,模型通过详细地分析SOI器件在各工作区域的工......
为了研究高介电常数(高k)栅介质材料异质栅中绝缘衬底上的硅和金属-氧化物-硅场效应晶体管的短沟道效应,为新结构器件建立了全耗尽......
本文通过求解二维泊松方程,为应变Si全耗SOI MOSFET建立了全耗尽条件下表面势模型,利用传统的漂移-扩散理论.在表面势模型的基础上......
本文主要研究考虑量子效应的高k栅介质SOIMOSFET器件特性.通过数值方法自洽求解薛定谔方程和泊松方程,得到了垂直于SiO2/Si界面方......
本文深入研究了130nm Silicon-on-Insulator(SOI)技术下的窄沟道n型metal-oxide-semiconductor-field-effect-transistor(MOSFET)......
SOI MOSFET器件具有速度高、功耗低、抗辐照能力强、温度稳定性好等诸多优点,在军工、航空航天等众多领域有着广阔的应用前景.但迄......
本文对ＳＩＭＯＸ／ＳＯＩ全耗尽Ｎ沟ＭＯＳＦＥＴ中单晶体管Ｌａｔｃｈ状态对器件性能的影响进行了实验研究．实验结果表明，短时间的Ｌａｔｃｈ条件下的电应力冲击便可使全耗尽器件特性产生......
该论文主要围绕膜全耗尽SOIMOSFET的电容模型,进行了理论以及实验两方面的研究 工作.首次对不同器件物理参数及工艺参数对栅电容的......
针对MOS结构器件抗辐照应用所面临的瓶颈问题,该文主要围绕体硅及SOIMOS器件的总剂量辐照效应开展了实验及理论两方面的研究工作.......
由于SOI MOSFET比体硅MOSFET存在更复杂的结构，因此它的总剂量辐照效应也比体硅更复杂。为了提高SOI MOSFET的抗总剂量水平，本论文对......
本文详细地分析了薄膜SOI器件的特性并指出该器件的许多特性是其固有的。这些特性使得SOI技术对于高可靠、低压、低功耗、高速系统......
从数值解源端和饱和点的表面电势出发，考虑模拟电路对SOI MOSFET模型的一些基本要求如电荷守恒、器件源漏本征对称、各个工作区间......
ＳＯＩ ＭＯＳＦＥＴ中存在着严重的自加热效应，对其直流特性有较大的影响，给出准确的自加热效应模型是精确模拟ＳＯＩ ＭＯＳＦＥＴ直流特性的基础。文中通过对自加热效......
文章通过对SOIMOSFET进行大量的模拟、计算,提出了一个新的SOIMOSF盯模型,它计入了影响深亚微米器件工作的各种二级物理效应,该模......
利用自己设计的适合深亚微米SOIMOS器件模型及SPICE电路模拟程序，详细分析了小尺寸SOI器件的阈值电压，饱和漏电流，电导，跨导等与工艺参......
